在生产过程中，光卤石晶体粒度分布主要取决于育晶器装置的结构和料液运转方式。
浆料输送泵、固液分离设备以及其他输送系统也对光卤石粒度的大小有很大的影响。

就结晶装置而言，要获得颗粒均匀的光卤石晶体，必须采取防止光卤石晶体在结晶装置内破碎的措施：

1、选择转速较低的循环泵，减轻叶片与光卤石晶粒的磨擦;

2、防止料液在结晶器内出现过高的过饱和度;

3、结晶器中保持稳定的真空度、料液浓度等参数也是保证光卤石、晶体颗粒度的重要因素。

结晶器选择DTB的结晶器比较合适，具体原理如下：

澄清后的蒸发完成液由进料口进入结晶器的下部，与结晶器中的母液混合后，脱气膜多少钱，从导流筒底部附近流入结晶器，并在缓慢转动的搅拌器的作用下，在导流筒中向动至液面，然后折返至沉降区，再经导流筒作循环流动。

溶液在液面闪蒸冷却达到过饱和状态，析出光卤石结晶。
其中部分光卤石在细晶表面沉积，使光卤石结晶体得以长大，在料液循环过程中落入沉降区。
较大晶粒的光卤石浆料经出料口排出。

料液在整个系统循环的过程中，通过机械作用，对沉降区中的光卤石晶粒进行淘洗，以提高其质量。
光卤石和氯化钠晶粒与母液在育晶器的沉降区内向上部流动时，脱气膜，进行光卤石小颗粒的浓缩育晶，整个工艺的循环液经排料口进入下段结晶器或沉降器。

在膜吸收工艺中，膜接触器完整地替代了吹脱塔和解吸塔的功能，将其组合到一个膜接触器的整体中，脱气膜工艺，在膜接触器中，可以同时进行氨气解吸和吸收过程，由于膜接触器中的PTFE中空纤维膜为细丝结构，接触面积大，反应效率提高，可以大大降低设备占地面积。
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